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  • 一线工程师眼中的国产光刻胶

    光刻,顾名思义,用光进行雕刻,以光为工具将光罩(mask)上的图案转移到晶圆上的过程,听起来很简单,但要想实现这个图形的转移,过程很复杂,技术难点也很多。从结果导向来看,主要做好三件事—CD(critical dimension:关键尺寸),OVL(overlay:套刻精度)和defect(图形缺陷)。

    阅读:1481 发布时间:2022-02-18 光刻机光刻光刻胶

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